現在微電子集成電路技術對世界的各種科技電子產品越來越應用廣泛了，一個國家的發(fā)展越來越離不開高端芯片了，光刻機就是制造芯片的機器設備，沒有光刻機芯片是沒法生產出來的，所以光刻機對于芯片制造業(yè)到底有多重要大家都知道。對于這么尖端的技術，按理來說那些芯片強國應該是光刻機的制造強國才對，但讓大家感到意外的是，目前世界上最好的光刻機不是來自美國，韓國，英國、日本等這些芯片強國，而是來自荷蘭。
光刻機技術哪家強？
光刻機是生產大規(guī)模集成電路的核心設備，是制造和維護光學和電子工業(yè)的基礎。光刻機技術目前是世界上最尖端的技術之一，只有少量國家掌握光刻機唯一上市公司，所以光刻機的價格是非常昂貴的，世界上頂級光刻機就是荷蘭生產組裝的光刻機，一臺高端的光刻機甚至可以賣到6億元左右（目前全球最貴的EUV光刻機單臺售價已經超過6.3億元），即便賣這么貴還供不應求，很多訂單都需要排隊生產，甚至有部分國家給再多的錢也買不到。
世界上最頂尖的光刻機
現在世界上最先進的光刻機是荷蘭的ASML，其次就是日本的NIKON和日本的CANON，這三個品牌是世界上最好的了，荷蘭的最好，因為荷蘭的是各國高科技的合成產品，最主要的光源和鏡頭來自德國，荷蘭的光刻機90%的零配件是全世界采購，一臺光刻機的配件超過五萬的零件，90%的配件來自全世界，也就是說約四萬五千個零件來自世界各地。
目前在全球45納米以下高端光刻機市場當中，荷蘭ASML市場占有率達到80%以上，而且目前ASML是全球唯一能夠達到7納米精度光刻機的提供商，所以ASML才是全球芯片業(yè)真正的超級霸主一點都不過分。正因為得益于技術領先，目前ASML的市場份額也是很大的，目前全球知名芯片廠商包括英特爾、三星、臺積電、SK海力士、聯(lián)電、格芯、中芯國際、華虹宏力、華力微等等全球一線公司都是ASML的客戶。
為何荷蘭能誕生全球最頂尖的光刻機廠商？
荷蘭的光刻機技術強大主要靠ASML，ASML成立于1984年，由飛利浦與先進半導體材料國際（ASML）合資成立，總部位于荷蘭的費爾德霍芬。1995年，ASML收購了菲利普持有的股份，稱為完全獨立的公司。
阿斯麥公司ASML Holding NV創(chuàng)立于1984年，是從飛利浦獨立出來的一個半導體設備制造商。前稱ASM Lithography Holding N.V.，于2001年改為現用名，總部位于荷蘭費爾德霍芬，全職雇員12,168人，是一家半導體設備設計、制造及銷售公司。
簡單介紹一下圖中各設備的作用：
測量臺、曝光臺：承載硅片的工作臺，也就是雙工作臺。一般的光刻機需要先測量，再曝光，只需一個工作臺，而ASML有個專利，有兩個工作臺，實現測量與曝光同時進行。而本次“光刻機雙工件臺系統(tǒng)樣機研發(fā)”項目則是在技術上突破ASML對雙工件臺系統(tǒng)的技術壟斷。
激光器：也就是光源，光刻機核心設備之一。
光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。
能量控制器：控制最終照射到硅片上的能量，曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。
光束形狀設置：設置光束為圓型、環(huán)型等不同形狀，不同的光束狀態(tài)有不同的光學特性。
遮光器：在不需要曝光的時候，阻止光束照射到硅片。
能量探測器：檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求，并反饋給能量控制器進行調整。
掩模版：一塊在內部刻著線路設計圖的玻璃板，貴的要數十萬美元。
掩膜臺：承載掩模版運動的設備，運動控制精度是nm級的。
物鏡：物鏡由20多塊鏡片組成，主要作用是把掩膜版上的電路圖按比例縮小，再被激光映射的硅片上光刻機唯一上市公司，并且物鏡還要補償各種光學誤差。技術難度就在于物鏡的設計難度大，精度的要求高。
硅片：用硅晶制成的圓片。硅片有多種尺寸，尺寸越大，產率越高。題外話，由于硅片是圓的，所以需要在硅片上剪一個缺口來確認硅片的坐標系，根據缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、notch。
內部封閉框架、減振器：將工作臺與外部環(huán)境隔離，保持水平，減少外界振動干擾，并維持穩(wěn)定的溫度、壓力。
EUV（極紫外光源）光刻機，是生產7nm制程芯片必不可少的設備，我們熟知的華為麒麟芯片、高通驍龍芯片，三星Exynos芯片的制造都離不開該設備?？梢哉f沒有EUV光刻機就生產不出頂級的處理器，如果臺積電不給華為代工，華為就得退出中高端手機市場！
目前僅有由荷蘭飛利浦公司發(fā)展而來的ASML（阿斯麥）一家可提供可供量產用的EUV光刻機，在全球市場處于絕對壟斷地位。因此ASML對于EUV光刻機的供貨重要性不言而喻，同時一臺光刻機的價值不菲，超過一億美元！
關鍵字：光刻機
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